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碳燃燒提純?cè)O(shè)備

本技術(shù)無(wú)需氫源,專門為無(wú)氫或允許微量氫氣的生產(chǎn)工藝而設(shè)計(jì)的氣體凈化設(shè)備。本技術(shù)適用于氮?dú)?、二氧化碳、惰性氣體(氬、氦、氪、氙、氖氣等)等氣體除氧,以獲取高純氣體。

碳燃燒提純?cè)O(shè)備
  • 高可靠性 高穩(wěn)定性

    高可靠性 高穩(wěn)定性

    擁有自主的先進(jìn)技術(shù),采用先進(jìn)的節(jié)能工藝流程,配合使用自制的除氧催化劑,設(shè)備運(yùn)氣更穩(wěn)定,可靠,使用時(shí)間更長(zhǎng)。裝置運(yùn)行穩(wěn)定性好,可靠性高,常溫常壓下工作,性能好,正常使用、維護(hù)下13X分子篩使用時(shí)間可達(dá)10年以上。

  • 先進(jìn)的程控閥門技術(shù)

    先進(jìn)的程控閥門技術(shù)

    獨(dú)特的程控閥門,結(jié)構(gòu)緊裝、占空間小、漂亮美觀、開(kāi)關(guān)次數(shù)高達(dá)100萬(wàn)次無(wú)故障。

  • 占地面積小 無(wú)氫設(shè)計(jì)

    占地面積小 無(wú)氫設(shè)計(jì)

    裝置工藝流程簡(jiǎn)單、結(jié)構(gòu)緊湊、占地面積小、減少空間需求。本裝置適用于專門為無(wú)氫氣或不要使用氫氣而設(shè)計(jì)的氣體純化設(shè)備,且對(duì)碳無(wú)要求。

  • 自動(dòng)化控制 維護(hù)簡(jiǎn)單

    自動(dòng)化控制 維護(hù)簡(jiǎn)單

    裝置自動(dòng)化程度高,觸摸屏控制開(kāi)停機(jī)方便快捷,啟動(dòng)時(shí)間短,可遠(yuǎn)程控制設(shè)備啟停。吸附器結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)獨(dú)特,氣流的分布相當(dāng)均勻,接觸時(shí)間長(zhǎng),13X分子篩在很大程度上得到利用,可以在不停機(jī)下更換脫水干燥劑或進(jìn)行大檢修。

配置功能
常規(guī)配置功能

可編程序控制器自動(dòng)化控制

氮?dú)饧兌?、流量在線監(jiān)測(cè)

冷干機(jī)、過(guò)濾器自動(dòng)排污;

可選配置功能

設(shè)備維修或外界事故(停電等)時(shí),備用氮?dú)庾詣?dòng)補(bǔ)充切換

人機(jī)界面控制系統(tǒng)

冷卻水故障報(bào)警自動(dòng)開(kāi)停機(jī)

技術(shù)指標(biāo)

額定處理量:20-1000Nm3/h

工作溫度:350℃

CO2含量:≤1000ppm(其他CO2含量請(qǐng)咨詢)

原料氣氧含量:≤1000ppm

脫氧深度:≤1ppm

常壓露點(diǎn):≤-60℃(其他露點(diǎn)請(qǐng)咨詢)

原理

在加熱條件下,氣體中的氧直接與碳脫氧劑發(fā)生氧化(燃燒)反應(yīng)生產(chǎn)二氧化碳,從而達(dá)到除氧的目的,再通過(guò)變壓吸附原理脫除氣體中的二氧化碳及水分。

C+O2→CO2(加熱條件下)

設(shè)備組成

NCRd型氮?dú)饧兓b置由燃燒除氧系統(tǒng)、吸附干燥系統(tǒng)、電氣控制系統(tǒng)三大部分組成。具體配件有觸摸屏orTD200、氮?dú)夥治鰞x、流量計(jì)、可編程序控制器、燃燒塔、干燥塔、水冷卻器、熱換器、過(guò)濾器、管道氣動(dòng)閥、電磁閥。

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