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脫氧脫氫提純設(shè)備Ⅰ

本技術(shù)適用于氮氣、一氧化碳、二氧化碳、惰性氣體(氬、氦、氪、氙、氖氣等)、乙烯等氣體中除氧以獲取高純氣

脫氧脫氫提純設(shè)備Ⅰ
配置功能
常規(guī)配置功能

可編程序控制器自動化控制

氮氣純度、流量在線監(jiān)測

冷干機、過濾器自動排污

可選配置功能

備用氮氣自動補充、自動切換

人機界面控制系統(tǒng)

故障報警、自動關(guān)閉加氫電磁閥

全自動開停機

技術(shù)指標

額定處理量:10-500Nm3/h

工作溫度:300℃

脫氫深度:≤1ppm

原料氣氧含量:≤1000ppm

脫氧深度:≤1ppm

常壓露點 :≤-60℃(其他露點請咨詢)

原理

利用催化劑中的金屬低價氧化物與雜質(zhì)氧在加熱條件下直接發(fā)生氧化反應生成金屬高價氧化物,從而將雜質(zhì)氧除去。再在加熱條件下通入氫氣與產(chǎn)品混合氣,金屬高價氧化物與氫氣發(fā)生還原反應生成金屬低價氧化物,從而使催化劑再次具有與雜質(zhì)氧發(fā)生氧化反應的性能,進而采用干燥再進行除水。

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